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Aperçu ProduitsCristal de GGG

film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG

Certificat
La Chine ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd. certifications
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film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG

film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG
film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG

Image Grand :  film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: La Chine
Nom de marque: Crystro
Certification: ROHS
Numéro de modèle: 1GGG10*10*0.5-B
Conditions de paiement et expédition:
Quantité de commande min: 1 morceau
Prix: Negotiable
Détails d'emballage: boîte de carton
Délai de livraison: 3-4 semaines
Conditions de paiement: T/T, Western Union, MoneyGram, Paypal
Capacité d'approvisionnement: 100 PCs par semaine
Description de produit détaillée
Nom de production: substrat de ggg Formule chimique: Gd3Ga5O12
Paramètre de Lattic: a=12.376Å Dimensions: 10mm x 10mm x 0.5mm
Densité: 7.13g/cm3 Dureté de Mohs: 8,0
Point de fusion: 1725℃ Indice de réfraction: 1,954 à 1064nm
Orientation: (111) Polonais: Un côté a poli
Surligner:

Film épitaxial élevant le cristal de GGG

,

Cristal épitaxial du semi-conducteur GGG

,

Substrat épitaxial du semi-conducteur GGG


 

GGG substrat de 10mm x de 10mm x de 0.5mm pour l'élevage épitaxial de film de semi-conducteur

 

 

Le substrat de GGG, le grenat de gallium de gadolinium (GGG) est les substrats consacrés pour le film magnéto-optique. Dans des dispositifs de télécommunication optique, exigez le beaucoup d'utilisant 1.3μ et l'isolant 1.5μ optique, son composant de noyau est le YIG ou le GRAND film placé dans un champ magnétique. Les substrats de monocristal de GGG de différent tangentiel, qui peut réaliser le meilleur match de trellis avec ce matériel magnéto-optique, de ce fait assurant le YIG, la croissance épitaxiale de GRAND film soient réussis.
GGG a de bonnes propriétés physiques et mécaniques et stabilité chimique. GGG est le meilleur matériel de substrat pour les isolants faits à micro-ondes.

 

 

Principaux avantages :

 

Grandes dimensions, de 2,8 à 76mm.

Basses pertes optiques (<0>

Conduction thermique élevée (7.4W m-1K-1).

Seuil élevé de dommage dû au laser (>1GW/cm2)

 

 

Propriétés principales :

 

Formule chimique Gd3GA5O12
Paramètre de trellis a=12.376Å
Méthode de croissance Czochralski
Densité 7.13g/cm3
Dureté de Mohs 8,0
Point de fusion 1725℃
Indice de réfraction 1,954 à 1064nm

 

 

 

 

 

 

 

 

 

CRYSTRO peut offrir :

 

Orientation [111] dans la minute de l'arc ±15
Vague Front Distortion <1>
Tolérance de diamètre ±0.05mm
Tolérance de longueur ±0.2mm
Chanfrein º de 0.10mm@45
Planéité <1>
Parallélisme < 30="" arc="" Seconds="">
Perpendicularity < 15="" arc="" min="">
Qualité extérieure 10/5 éraflure/fouille
Ouverture claire >90%
Grandes dimensions des cristaux 2.8-76 millimètres de diamètre
 

Image de produit :

film épitaxial de semi-conducteur de 10mm x de 10mm x de 0.5mm élevant le cristal de GGG 0

 

 

Coordonnées
ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd.

Personne à contacter: Chen Dongdong

Téléphone: +86 18326013523

Télécopieur: 86-551-63840588

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